4-12 Inch 單片晶圓dry-in/dry-out清洗平臺
適用於先進封裝製程的particle、有機、無機、助焊劑等污染物清洗。
標準配備
| 專利直噴嘴 |
| 二流體 |
| SPIN DRY |
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RTC 常溫溶劑型晶圓旋轉去蠟清洗機
4-12 Inch 單片晶圓dry-in/dry-out清洗平臺
適用於先進封裝製程的particle、有機、無機、助焊劑等污染物清洗。
| 專利直噴嘴 |
| 二流體 |
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